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Sacoche d'art Nano Etchr

La sacoche d'art Nano à été conçue par l’artiste et designer australien Darren Yeow, pour vous aider à créer plus d’art en déplacement. Le Nano Satchel est parfait pour les artistes qui utilisent un support physique et qui voyagent légers, et dessinent en déplacement. Adapté aux artistes gauchers et droitiers, ce sac vous permet de dessiner debout, en marchant ou assis.

Le Nano Satchel est livré avec une bande d’outils élastique intégrée et une bandoulière.

La Nano Satchel est parfaite pour une utilisation avec des supports traditionnels de taille A5 ou plus petite.

En stock

49,83 €

TTC

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Description

Envisagée comme une version simplifiée de l’Etchr Slate, la Nano Satchel conserve la plate-forme unique d’emboutissage rapide qui fait la réputation de la gamme Slate, mais a un encombrement plus petit et utilise des matériaux et des composants simplifiés.

Le Nano Satchel utilise un matériau externe en polyester hydrofuge qui a une certaine résistance à l’eau. Cependant, il n’est pas aussi résistant à l’eau que l’Art Satchel, le Field Case ou la gamme Slate. Ces produits utilisent des matériaux et des composants plus coûteux qui sont mieux adaptés aux intempéries.

Les dimensions de la sacoche Nano sont:

Dimensions extérieures : Longueur : 26,7 cm ou 10,5 po Largeur : 18,7 cm ou 7,6 po Profondeur : 6,6 cm ou 2,6 po

Dimensions intérieures : Longueur : 24,4 cm ou 9,6 po Largeur : 16,1 cm ou 6,5 po Profondeur : 3 cm ou 1,2 po

Poids : 0,5 kg